實(shí)踐中，大量的發(fā)明創(chuàng)造通過提交專利申請(qǐng)并獲得授權(quán)進(jìn)行保護(hù)，因此，專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量往往影響專利權(quán)人能否順利維權(quán)，以及抵御競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。本文從專利申請(qǐng)文件撰寫的角度出發(fā)，探討專利申請(qǐng)文件的撰寫技巧。

　　第一，應(yīng)當(dāng)考慮適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)范圍。所謂“適當(dāng)”的保護(hù)范圍，是指在符合我國專利法及其實(shí)施細(xì)則的前提下，盡可能獲得較大的保護(hù)范圍。
專利申請(qǐng)文件撰寫的過程是二次創(chuàng)造的過程，這個(gè)過程需要發(fā)明人、專利代理人等共同參與，討論解決發(fā)明創(chuàng)造涉及的技術(shù)問題的各種實(shí)施方式，將實(shí)施方式的技術(shù)特征進(jìn)行概括、抽象（上位概括或功能性限定）后確定權(quán)利要求。而上位概括也需要盡可能多的實(shí)施例以使得權(quán)利要求能夠得到說明書的支持。功能性特征在侵權(quán)判定時(shí)解釋為說明書中揭示的具體實(shí)施方式及其等同的實(shí)施方式，而等同規(guī)則的適用又容易存在異議，因此在專利申請(qǐng)文件撰寫階段挖掘盡可能多的實(shí)施方式有助于獲得更適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)范圍。

　　第二，撰寫專利申請(qǐng)文件時(shí)也要從有利于侵權(quán)判定的角度考慮。例如基于全面覆蓋原則，在最初撰寫專利申請(qǐng)文件時(shí)只需將能夠解決本發(fā)明的技術(shù)問題的最必要的技術(shù)特征集寫入獨(dú)立權(quán)利要求中，非必要技術(shù)特征只會(huì)限制縮小保護(hù)范圍。實(shí)踐中，發(fā)明名稱、使用環(huán)境特征、以制備方法界定產(chǎn)品的技術(shù)特征、方法權(quán)利要求的步驟順序等均有可能限制縮小專利權(quán)的保護(hù)范圍，使用時(shí)需仔細(xì)斟酌。若權(quán)利要求中存在可能有歧義的術(shù)語而在說明書中未加解釋，都可能對(duì)后續(xù)權(quán)利要求的解釋造成障礙。

　　第三，應(yīng)當(dāng)考慮專利產(chǎn)品或方法的商業(yè)前景。在專利申請(qǐng)文件撰寫階段，專利代理人有可能在與發(fā)明人溝通過程中發(fā)現(xiàn)技術(shù)方案可以應(yīng)用于更有商業(yè)前景的領(lǐng)域。例如，一項(xiàng)技術(shù)方案可以用在PC端，但經(jīng)過對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的了解，發(fā)現(xiàn)其應(yīng)用在移動(dòng)端的前景十分可觀，但應(yīng)用在移動(dòng)端需要對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整，因此產(chǎn)生了不同的技術(shù)方案，此時(shí)就需要及時(shí)調(diào)整申請(qǐng)策略。

　　第四，應(yīng)當(dāng)考慮專利是否容易被競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手規(guī)避。專利代理人可以與申請(qǐng)人一起拓展可能的改進(jìn)技術(shù)方案以及可能的變劣技術(shù)方案，改進(jìn)的技術(shù)方案可以作為專利審查階段的“退路”，并且可能阻止競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手將改進(jìn)方案提交專利申請(qǐng)。根據(jù)北京市高級(jí)人民法院出臺(tái)的《專利侵權(quán)判定指南》，變劣技術(shù)方案不構(gòu)成等同侵權(quán)，因此在撰寫專利申請(qǐng)文件時(shí)也應(yīng)對(duì)變劣技術(shù)方案一并考慮。

　　第五，應(yīng)當(dāng)考慮有利于取證維權(quán)。若申請(qǐng)人從事產(chǎn)品生產(chǎn)業(yè)務(wù)，從侵權(quán)賠償?shù)慕嵌葋砜矗瑢＠暾?qǐng)文件撰寫以抵御產(chǎn)品生產(chǎn)商為主可能對(duì)權(quán)利人更加有利。這是因?yàn)榍謾?quán)產(chǎn)品銷售商、進(jìn)口商和使用者一般較容易證明侵權(quán)產(chǎn)品的合法來源。在此情況下，撰寫產(chǎn)品以及產(chǎn)品的制備方法權(quán)利要求較為有利。

　　在通信、網(wǎng)絡(luò)、計(jì)算機(jī)領(lǐng)域，申請(qǐng)人面對(duì)的侵權(quán)對(duì)象可能有多個(gè)，希望抵御哪些侵權(quán)對(duì)象，是決定其權(quán)利要求的重要因素。針對(duì)不同的侵權(quán)對(duì)象可以設(shè)計(jì)不同的權(quán)利要求。

　　通常來說，若不需要對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行拆解或消費(fèi)者使用時(shí)就可以得知產(chǎn)品的技術(shù)特征是更有利于取證的。如果需要通過反向工程才能確定某一產(chǎn)品是否侵權(quán)，則需要考慮反向工程的難度。例如，對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域相關(guān)專利，可以通過普通測(cè)量儀器或技術(shù)進(jìn)行測(cè)量的技術(shù)特征更有利于取證。對(duì)于半導(dǎo)體、芯片領(lǐng)域相關(guān)專利，若反向工程較容易實(shí)現(xiàn)，則可以描述元件及其之間的連接方式；若反向工程較難實(shí)現(xiàn)或成本較高，則有必要考慮是否需要改變撰寫方式。

　　第六，應(yīng)當(dāng)考慮布局策略。撰寫專利申請(qǐng)文件時(shí)，也應(yīng)重視從屬權(quán)利要求的作用，即在獨(dú)立權(quán)利要求之外，可以將其他具有新穎性和創(chuàng)造性的技術(shù)特征布置到從屬權(quán)利要求中，以阻斷競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的規(guī)避設(shè)計(jì)。

　　同時(shí)，應(yīng)當(dāng)考慮不同層次的保護(hù)范圍，部分專利申請(qǐng)文件可能會(huì)出現(xiàn)某些技術(shù)特征之間不兼容的情況，此時(shí)可以考慮構(gòu)建不同保護(hù)范圍的獨(dú)立權(quán)利要求，以避免因修改而放棄部分保護(hù)范圍。另外，在一些情況下，方法權(quán)利要求可以與產(chǎn)品權(quán)利要求的保護(hù)范圍有所區(qū)別，例如方法權(quán)利要求的保護(hù)范圍可以大于產(chǎn)品權(quán)利要求的保護(hù)范圍，以實(shí)現(xiàn)不同層次的保護(hù)。

　　我國申請(qǐng)人若要在國外進(jìn)行專利布局，在撰寫專利申請(qǐng)文件時(shí)需要考慮不同國家的相關(guān)法律規(guī)定。通過《專利合作條約》（PCT）途徑提交國際專利申請(qǐng)時(shí)，由于可修改的空間相對(duì)有限，尤其需要對(duì)優(yōu)先權(quán)文件進(jìn)行嚴(yán)格把關(guān)。

　　例如，在提交美國專利申請(qǐng)時(shí)，應(yīng)避免出現(xiàn)過多對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的自認(rèn)和討論。因?yàn)椋绹鴮＠虡?biāo)局對(duì)于“前置基礎(chǔ)（Antecedent Basis）”“專利可實(shí)施性（Enablement）”“書面描述要求（Written Description）”的審查較為嚴(yán)格，在撰寫優(yōu)先權(quán)文件時(shí)應(yīng)當(dāng)格外謹(jǐn)慎。（李興迪　本文僅代表作者個(gè)人觀點(diǎn)，來源：中國知識(shí)產(chǎn)權(quán)報(bào)）